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PRODUCTS & SOLUTIONS
產(chǎn)品&解決方案
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M5111-2/UM型低壓硼擴(kuò)散爐設(shè)備
所屬分類
高端光伏裝備
產(chǎn)品描述
設(shè)備概述：
擴(kuò)散爐是半導(dǎo)體生產(chǎn)線前道工序的重要工藝設(shè)備之一，用于大規(guī)模集成電路、分立器件、電力電子、光電器件和光導(dǎo)纖維等行業(yè)的擴(kuò)散、氧化、退火、合金及燒結(jié)等工藝。
低壓擴(kuò)散爐在太陽能行業(yè)主流磷擴(kuò)散、硼擴(kuò)散工藝，其中磷擴(kuò)散設(shè)備用于P型晶體硅PERC工藝中PN結(jié)的制備，硼擴(kuò)散設(shè)備用于N型晶體硅TOPCON工藝中PN結(jié)的制備。
產(chǎn)品的主要特點(diǎn)及優(yōu)勢：
- 硅片尺寸可兼容至230mm;
- 產(chǎn)能和兼容性優(yōu)，可兼容多種規(guī)格硅片，僅需更換工裝夾具;
- 具備硼擴(kuò)散及磷擴(kuò)散工藝，兼容水平、垂直及常規(guī)方形放片；
- 配備獨(dú)特的濕氧系統(tǒng)，能夠有效縮短工藝時(shí)間提升工藝效果，大幅提升石英件使用壽命；
- 工藝技術(shù)成熟可靠，依托公司的工藝驗(yàn)證電池線，可提供整線工藝技術(shù)支持服務(wù)。
主要技術(shù)參數(shù)
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工藝種類 |
硼擴(kuò)散 |
恒溫區(qū)長度 |
≤±0.5℃/2500mm(800℃ - 1100℃) |
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工藝氣體 |
BCl3(可定制BCl3供氣柜）、N2、O2 |
≤±1℃/2500mm(600℃ - 799℃) |
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石英管內(nèi)徑 |
5管/臺(tái)、6管/臺(tái)、10管/臺(tái)、12管/臺(tái) |
溫度速率 |
≤±1℃/2500mm(600℃ - 799℃) |
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典型裝片量 |
182硅片：2640片/管、2200片/管、（順氣流） |
石英管內(nèi)徑 |
≥420mm |
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210硅片：2000片/管、1800片/管（順氣流） |
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片內(nèi)≤5%、片間≤4%、 |
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溫度控制范圍 |
600℃ - 1500℃ |
工作壓力 |
50-1000mBar（環(huán)閉控制） |
未找到相應(yīng)參數(shù)組，請于后臺(tái)屬性模板中添加
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M5311-1/UM型LPCVD設(shè)備
M82300-8/UM型 PECVD鍍膜設(shè)備
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